隨著半導(dǎo)體制造工藝邁向 3nm、2nm 等更先進(jìn)制程,微顆粒污染控制已成為決定產(chǎn)品良率的關(guān)鍵因素。國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)近期推出的 E195 標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)志著行業(yè)潔凈度管控理念的重大轉(zhuǎn)變——從傳統(tǒng)的空氣懸浮顆粒監(jiān)測(cè),升級(jí)為[更多]
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