隨著半導體制造工藝邁向 3nm、2nm 等更先進制程,微顆粒污染控制已成為決定產品良率的關鍵因素。國際半導體產業協會(SEMI)近期推出的 E195 標準標志著行業潔凈度管控理念的重大轉變——從傳統的空氣懸浮顆粒監測,升級為[更多]
用微信掃碼二維碼分享至好友和朋友圈